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當前位置：首頁產品中心半導體電子設備MESA/SC晶片清洗設備
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MESA/SC晶片清洗設備該機清洗程序為酸洗、超聲洗、噴淋清洗、流洗。其工藝性能指標及可靠性*達到進口同類設備水平。采用進口PP板制作。 適用MESA*SC晶片清洗。 超聲功率強勁，性能穩定。 采用進口超聲波電源。
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更新時間：2021-06-10
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